酸素分析装置 O836Si型
無機分析
酸素分析装置
O836Si
シリコン業界における需要に応えるために開発された
シリコンウェハー専用酸素分析装置
O836Siは、シリコン業界における低濃度・高精度酸素分析の需要に応えるために開発された、シリコンウェハー専用酸素分析装置です。高い精度を誇る非分散型赤外線検出器、最新のサンプルローディングシステムとプログラム可能なインパルス炉の組み合わせで正確・高精度な酸素分析を可能にします。
- シリコンウェハー・鉄鋼等金属・その他
特長と利点
主な特徴
・低濃度用、高精度な非分散型赤外線検出器
・測定結果はppmaでの表示も可能
・測定結果はppmaでの表示も可能
機能的なサンプルローディングエリア
・シリコンウェハーとブロック試料の両方に対応したユニバーサルデザインのローディングヘッドを採用
・サンプル投入時の大気の巻き込みが最小限に
・サンプルドロップ機構の定期メンテナンスを簡易化
・OMIチューブ（キャリアガス中の酸素水分除去試薬）が、交換しやすく、またバイパスすることにより長寿命化を実現
・サンプル投入時の大気の巻き込みが最小限に
・サンプルドロップ機構の定期メンテナンスを簡易化
・OMIチューブ（キャリアガス中の酸素水分除去試薬）が、交換しやすく、またバイパスすることにより長寿命化を実現
信頼性の高い自動化機構
・オプションのオートクリーナーを取り付ける事でサンプル間の手動クリーニングが最小限に
・オプションの20サンプル用バッチローダーも取り付け可能
・オプションの20サンプル用バッチローダーも取り付け可能
その他
・フレキシブルアームに取り付けられたタッチパネル式インターフェイスで人間工学に基づいた直感的なオペレーションが可能
・圧力補正、温度コントロールされたガスドーズシステム
・最新の配管は破損やリークの原因となる継ぎ目を最小限に
・圧力補正、温度コントロールされたガスドーズシステム
・最新の配管は破損やリークの原因となる継ぎ目を最小限に
詳細仕様
| 分析範囲 （試料重量0.3 g） |
0.1 ppm〜500 ppm ※分析範囲は試料の種類や分析パラメーターによって異なります。 |
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| 分析精度 （試料重量0.3 g） |
標準偏差（s） 0.05 ppm または RSD 0.3% ※いずれか大きい方 ※分析精度は装置ブランクの標準偏差（1s）であり、試料の種類や分析パラメーターによって異なります。 |
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| 分析時間 | ヘリウム 110秒 アルゴン 120秒 |
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| サイクルタイム | ヘリウム 280秒 アルゴン 290秒 |
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| キャリブレーション | 標準試料 / 1点または多点 / 手動 / ガスドーズ |
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| 試料量 | 通常 1.0 g、0.25 g〜0.70 g（シリコン分析） |
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| 検出方法 | 非分散型赤外線吸収法 |
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| 試薬 | ・過塩素酸マグネシウム ・レアアースベース酸化銅、還元銅 ・水酸化ナトリウム（不活性基質にコーティング） ・酸素水分除去試薬（OMIチューブ） |
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| 使用ガス | キャリアガス：ヘリウム（99.99%）、0.15 MPa ±5% アルゴン（99.999%）、0.15 MPa ±5% 駆動ガス：圧縮空気または窒素（水分・油分が含まれないこと） 0.28 MPa ±10% ガスドーズ：二酸化炭素（99.99%）、0.14 MPa ±10% |
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| ガス流量 | キャリア：460 cc/分 駆動ガス：280 cc/分析 |
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| 炉 | 電極炉、電流・パワー制御、最大7500 W、水冷式 |
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| 冷却水 | 3.2 L、LECO Coolant |
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| 動作環境 | 温度 15℃〜35℃ 相対湿度 20%〜80%（結露なし） |
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| 寸法・重量 | 幅：71 cm × 奥行：76 cm x 高さ：91.5 cm（通常） / 186 kg ※マウント式タッチスクリーンなしの場合（ありの場合の奥行：80 cm） ※ロードヘッドカバーリフト時の高さ：100 cm |
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| 電源容量 | 単相200 V~（+10/-15％：最大出力、230 Vに昇圧して使用）、50/60 Hz、60 A、12,500 BTU/hr※ ※通常設定での運転時平均。 |
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機種別パーツリスト
203-104-062
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